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一种熔盐提拉法生长ktp优质单晶的方法

2025-04-14 10:20:07 42次浏览
专利名称:一种熔盐提拉法生长ktp优质单晶的方法
技术领域
本发明属于晶体生长领域,具体指一种熔盐结合提拉法生长得到优质KTP的工艺方法。
背景技术
KTP (化学式KTi0P04)KTP (KTiOPO4),是一种具有优异的非线性、电光和声光性能的非线性光学晶体。高非线性系数、宽透过范围、大的接收角及热稳定等特点,使得KTP成为各种非线性光学和波导应用的理想材料,已经广泛运用于科研、技术等各个领域,特别是中小功率倍频的最佳晶体材料。熔盐提拉法具有简单、缩短生长周期,节约成本等特点。本发明采用新工艺,熔盐结合提拉法,利用K6为助熔剂生长KTP。

发明内容
本发明的目的是探究一种简单、缩短生长周期、节约成本得到优质KTP的方法。本发明通过如下方式实现
1. 一种熔盐提拉法生长KTP优质单晶的方法,其特征在于采用磷酸二氢钾、磷酸氢二钾和二氧化钛为原料,利用K6P4O13为助熔剂生长,使用熔盐结合提拉的方法生长KTP单晶。2.如项1所述的一种熔盐提拉法生长KTP优质单晶的方法,其特征在于KTP: K6P4O13 = 1:2。3.如项1所述的一种熔盐提拉法生长KTP优质单晶的方法,其特征在于所述熔盐提拉法使用的转速为15r/min,拉速为0. 2mm/day 2mm/day,降温速率为0. 2 V /day 2 "C /day ο本发明特点采用熔盐结合提拉法生长KTP,具有缩短生长周期、节约成本提高效率特点。
具体实施例方式实施例一采用磷酸二氢钾、磷酸氢二钾和二氧化钛为原料,利用K6为助熔剂生长,KTP:K6 = 0. 5g/g,于 950°C化料,转速 15r/min,拉速 0. 2mm/day 2mm/day,降温速率 0. 2V /day 2V /day,生长得到优质单晶KTP。
权利要求
1.一种熔盐提拉法生长KTP优质单晶的方法,其特征在于采用磷酸二氢钾、磷酸氢二钾和二氧化钛为原料,利用K6P4O13为助熔剂生长,使用熔盐结合提拉的方法生长KTP单晶。
2.如权利要求1所述的一种熔盐提拉法生长KTP优质单晶的方法,其特征在于KTP: K6P4O13 = 1:2。
3.3.如权利要求1所述的一种熔盐提拉法生长KTP优质单晶的方法,其特征在于所述熔盐提拉法使用的转速为15r/min,拉速为0. 2mm/day 2mm/day,降温速率为0. 2°C / day ~ 2°C / day。
全文摘要
一种熔盐提拉法生长KTP优质单晶的方法。本发明的核心内容是采用磷酸二氢钾、磷酸氢二钾和二氧化钛为原料,利用K6P4O13为助熔剂生长,KTP:K6P4O13=0.5g/1g,转速15r/min,拉速0.2mm/day~2mm/day,降温速率0.2℃/day~2℃/day。本发明具有简单、有效缩短生长周期、节约成本、高效等特点。
文档编号C30B29/22GK102465332SQ201110239820
公开日2012年5月23日 申请日期2011年8月21日 优先权日2010年11月18日
发明者吴少凡, 王昌运, 郑熠, 陈伟 申请人:中国科学院福建物质结构研究所
文档序号 : 【 8123339 】

技术研发人员:王昌运,陈伟,吴少凡,郑熠
技术所有人:中国科学院福建物质结构研究所

备 注:该技术已申请专利,仅供学习研究,如用于商业用途,请联系技术所有人。
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王昌运陈伟吴少凡郑熠中国科学院福建物质结构研究所
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