气溶胶生成基质、气溶胶生成制品及气溶胶生成系统的制作方法
本技术涉及雾化,具体涉及一种气溶胶生成基质、气溶胶生成制品及气溶胶生成系统。
背景技术:
1、在气溶胶生成基质中设有气道孔。气溶胶生成基质通过被加热等方式能够雾化形成气溶胶且气溶胶扩散至气道孔中。气流从气道孔的一端进入并裹挟气溶胶从气道孔的另一端排出,以供用户抽吸。
2、在相关技术中,气溶胶生成基质由薄片状结构聚拢卷制成型并在其内部形成气道孔。如此,容易使得所形成的气道孔的走向和排布紊乱,影响气流在气道孔中的流动效率;同时,气溶胶室生成基质在加热的过程中,薄片状结构彼此之间容易收缩而彼此贴合,从而造成气道孔的截面缩小,影响了用户的抽吸体验。
技术实现思路
1、有鉴于此,本实用新型实施例期望提供一种提高气流的流动效率的气溶胶生成基质、气溶胶生成制品及气溶胶生成系统。
2、为达到上述目的,本实用新型实施例的技术方案是这样实现的:
3、本实用新型实施例提供一种气溶胶生成基质,所述气溶胶生成基质中设有多个气道孔,所述气道孔沿长度方向延伸,至少部分所述气道孔分为多组,各组所述气道孔之间关于所述气溶胶生成基质沿长度方向的中心轴线呈放射状排布。
4、一些实施例中,所述气溶胶生成基质的任意两个垂直于长度方向的截面一致。
5、一些实施例中,所述气道孔的数目不低于5个。
6、一些实施例中,相邻两个所述气道孔之间的壁厚为0.01mm至0.2mm。
7、一些实施例中,所述气道孔的总体积与所述气溶胶生成基质中除所述气道孔之外部分的总体积的比值范围为1/5至5。
8、一些实施例中,多个所述气道孔所形成的放射状排布为离心式放射状排布;或者,为向心式放射状排布;或者,为同心式放射状排布。
9、一些实施例中,各组所述气道孔关于所述中心轴线旋转对称;
10、和/或,各组所述气道孔关于穿过所述中心轴线的基准平面轴对称。
11、一些实施例中,彼此对称的所述气道孔的组数不少于4组。
12、一些实施例中,多个所述气道孔为一组,在每组所述气道孔中,各所述气道孔垂直于长度方向的截面积沿远离所述中心轴线的方向增大。
13、一些实施例中,在各组所述气道孔之间,距所述中心轴线的距离相同的各所述气道孔,其垂直于长度方向的截面积相同。
14、一些实施例中,所述气溶胶生成基质包括多个辐条部和多个轮廓部,所述辐条部和所述轮廓部均沿长度方向延伸,各所述轮廓部关于所述中心轴线同心且彼此沿所述气溶胶生成基质的径向间隔,沿所述气溶胶生成基质的径向相邻的两个所述轮廓部通过所述辐条部连接,且两者之间的所述辐条部沿所述气溶胶生成基质的周向间隔,沿所述中心轴线的径向相邻的两个所述轮廓部,以及两者之间沿所述中心轴线的周向相邻的两个所述辐条部共同围设形成各组中的所述气道孔。
15、一些实施例中,至少部分所述轮廓部包括多个凸起,所述凸起沿所述中心轴线的径向朝远离所述中心轴线的方向凸出。
16、一些实施例中,在垂直于长度方向的截面上,所述凸起的截面形状为圆弧形、尖角形和梯形中的一种或者多种组合;
17、和/或,至少部分所述凸起包括第一部和第二部,所述第一部的截面形状为圆弧形,所述第二部的截面形状为矩形,所述第一部的沿圆弧方向的一端与所述第二部沿其长度方向的一端连接。
18、一些实施例中,每个所述轮廓部上所述凸起的数目不小于6个。
19、本实用新型实施例还提供一种气溶胶生成制品,所述气溶胶生成制品包括包覆层和前述实施例中任一的所述气溶胶生成基质,所述包覆层包裹于所述气溶胶生成基质的至少部分周向表面。
20、一些实施例中,部分所述包覆层的内侧表面与所述气溶胶生成基质沿所述气溶胶生成基质的径向间隔设置,以共同围设形成气隙,所述气隙沿长度方向延伸并贯通所述气溶胶生成制品。
21、一些实施例中,所述气隙的数目不少于4个;和/或,各所述气隙沿所述中心轴线的周向均布,且垂直于长度方向的截面积相等。
22、一些实施例中,所述气溶胶生成基质与所述包覆层接触部分的面积和未接触部分的面积的比值范围为1/8至5/2。
23、一些实施例中,所述气隙的总体积小于所述气道孔的总体积。
24、一些实施例中,所述气隙的总体积与所述气道孔的总体积的比值范围为1/40至2/15。
25、本实用新型实施例还提供一种气溶胶生成系统,包括气溶胶生成装置和前述实施例中任一的所述气溶胶生成制品,所述气溶胶生成装置包括加热件,所述加热件用于加热所述气溶胶生成基质以产生气溶胶。
26、本实用新型实施例中的气溶胶生成基质,通过布置多组呈放射状排布的气道孔,在提高对气溶胶生成基质内空间的利用率的同时,各气道孔能够有序排列、彼此独立,一方面,从而有利于在有限的空间内布置更多的气道孔,进而增大气道孔内壁的总面积;另一方面,有利于减少气道孔内的弯道,使得气流能够沿长度方向流动畅通,减少气流流动的阻碍,提高了气溶胶生成基质的热利用率和气流流动效率;同时,呈放射状排布气道孔,有利于降低气道孔的布置对气溶胶生成基质的结构强度的不利影响,降低了由于气溶胶生成基质在受热后发生变形引发气道孔截面变化而导致的气流流动不畅,提高了用户的抽吸体验。
技术特征:
1.一种气溶胶生成基质,其特征在于,所述气溶胶生成基质中设有多个气道孔,所述气道孔沿长度方向延伸,至少部分所述气道孔分为多组,各组所述气道孔之间关于所述气溶胶生成基质沿长度方向的中心轴线呈放射状排布。
2.根据权利要求1所述的气溶胶生成基质,其特征在于,所述气溶胶生成基质的任意两个垂直于长度方向的截面一致。
3.根据权利要求1所述的气溶胶生成基质,其特征在于,所述气道孔的数目不低于5个。
4.根据权利要求1所述的气溶胶生成基质,其特征在于,相邻两个所述气道孔之间的壁厚为0.01mm至0.2mm。
5.根据权利要求1所述的气溶胶生成基质,其特征在于,所述气道孔的总体积与所述气溶胶生成基质中除所述气道孔之外部分的总体积的比值范围为1/5至5。
6.根据权利要求1所述的气溶胶生成基质,其特征在于,多个所述气道孔所形成的放射状排布为离心式放射状排布;或者,为向心式放射状排布;或者,为同心式放射状排布。
7.根据权利要求1所述的气溶胶生成基质,其特征在于,各组所述气道孔关于所述中心轴线旋转对称;
8.根据权利要求7所述的气溶胶生成基质,其特征在于,彼此对称的所述气道孔的组数不少于4组。
9.根据权利要求1所述的气溶胶生成基质,其特征在于,多个所述气道孔为一组,在每组所述气道孔中,各所述气道孔垂直于长度方向的截面积沿远离所述中心轴线的方向增大。
10.根据权利要求1所述的气溶胶生成基质,其特征在于,在各组所述气道孔之间,距所述中心轴线的距离相同的各所述气道孔,其垂直于长度方向的截面积相同。
11.根据权利要求1所述的气溶胶生成基质,其特征在于,所述气溶胶生成基质包括多个辐条部和多个轮廓部,所述辐条部和所述轮廓部均沿长度方向延伸,各所述轮廓部关于所述中心轴线同心且彼此沿所述气溶胶生成基质的径向间隔,沿所述气溶胶生成基质的径向相邻的两个所述轮廓部通过所述辐条部连接,且两者之间的所述辐条部沿所述气溶胶生成基质的周向间隔,沿所述中心轴线的径向相邻的两个所述轮廓部,以及两者之间沿所述中心轴线的周向相邻的两个所述辐条部共同围设形成各组中的所述气道孔。
12.根据权利要求11所述的气溶胶生成基质,其特征在于,至少部分所述轮廓部包括多个凸起,所述凸起沿所述中心轴线的径向朝远离所述中心轴线的方向凸出。
13.根据权利要求12所述的气溶胶生成基质,其特征在于,在垂直于长度方向的截面上,所述凸起的截面形状为圆弧形、尖角形和梯形中的一种或者多种组合;
14.根据权利要求12所述的气溶胶生成基质,其特征在于,每个所述轮廓部上所述凸起的数目不小于6个。
15.一种气溶胶生成制品,其特征在于,所述气溶胶生成制品包括包覆层和权利要求1-14中任一的所述气溶胶生成基质,所述包覆层包裹于所述气溶胶生成基质的至少部分周向表面。
16.根据权利要求15所述的气溶胶生成制品,其特征在于,部分所述包覆层的内侧表面与所述气溶胶生成基质沿所述气溶胶生成基质的径向间隔设置,以共同围设形成气隙,所述气隙沿长度方向延伸并贯通所述气溶胶生成制品。
17.根据权利要求16所述的气溶胶生成制品,其特征在于,所述气隙的数目不少于4个;和/或,各所述气隙沿所述中心轴线的周向均布,且垂直于长度方向的截面积相等。
18.根据权利要求16所述的气溶胶生成制品,其特征在于,所述气溶胶生成基质与所述包覆层接触部分的面积和未接触部分的面积的比值范围为1/8至5/2。
19.根据权利要求16所述的气溶胶生成制品,其特征在于,所述气隙的总体积小于所述气道孔的总体积。
20.根据权利要求19所述的气溶胶生成制品,其特征在于,所述气隙的总体积与所述气道孔的总体积的比值范围为1/40至2/15。
21.一种气溶胶生成系统,其特征在于,包括气溶胶生成装置和权利要求15-20中任一的所述气溶胶生成制品,所述气溶胶生成装置包括加热件,所述加热件用于加热所述气溶胶生成基质以产生气溶胶。
技术总结
本技术实施例提供一种气溶胶生成基质、气溶胶生成制品及气溶胶生成系统,气溶胶生成基质中设有多个气道孔,气道孔沿长度方向延伸,至少部分气道孔分为多组,各组气道孔之间关于气溶胶生成基质沿长度方向的中心轴线呈放射状排布。本技术实施例中的气溶胶生成基质呈放射状排布气道孔,有利于降低气道孔的布置对气溶胶生成基质的结构强度的不利影响,降低了由于气溶胶生成基质在受热后发生变形引发气道孔截面变化而导致的气流流动不畅,提高了用户的抽吸体验。
技术研发人员:徐伟,邹汶廷,李肇源,倪军
受保护的技术使用者:思摩尔国际控股有限公司
技术研发日:20231103
技术公布日:2024/9/2
技术研发人员:徐伟,邹汶廷,李肇源,倪军
技术所有人:思摩尔国际控股有限公司
备 注:该技术已申请专利,仅供学习研究,如用于商业用途,请联系技术所有人。
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